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硅晶片線切割后清洗劑

希爾硅晶片線切割后清洗劑由多種進(jìn)口表面活性、緩蝕劑及其它助劑配制而成的水基清洗劑，針對(duì)硅晶片切割后拋光后殘留的硅粉、殘膠，氧化物和油污特別研制。清洗后晶片表面無(wú)白班，花斑、腐蝕等不良，適用于各種半導(dǎo)體硅片與硅晶片切割后清洗。

應(yīng)用領(lǐng)域：主要用于太陽(yáng)能電池硅晶片切割加工后的清洗，以及半導(dǎo)體芯片、晶圓切割后的清洗。

全國(guó)熱線

139-2572-1791

產(chǎn)品特點(diǎn)Product characteristics

√ 專(zhuān)用于硅晶片材質(zhì)，潔凈度高

√ 清洗后表面無(wú)花斑，無(wú)白斑

√ 清洗效果好，無(wú)殘留，不影響導(dǎo)電性能

√ 原液濃度高，槽液壽命長(zhǎng)，可循環(huán)使用

√ 水基安全，低泡型，易漂洗，無(wú)殘留

√ 符合voc指標(biāo)要求和歐盟RoHS認(rèn)證

專(zhuān)用硅晶片清洗無(wú)花斑白斑易漂洗環(huán)保無(wú)味不傷手

工藝流程

使用方式

恒溫清洗/超聲波清洗/平面線清洗
使用方法

按比例稀釋成工作液后，加熱至40-60度，超聲波清洗4-6分鐘。對(duì)于重污垢工件，延長(zhǎng)清洗時(shí)間或使用多槽多次方式徹底清洗干凈。
工作液維護(hù)

1、定期檢查槽液溫度、液位，及時(shí)補(bǔ)水及相應(yīng)比例補(bǔ)加原液。

2、按規(guī)定時(shí)間定期更換槽液。

: 金屬清洗劑

希爾金屬清洗劑是采用新配方工藝精制，具有良好的剝離、溶解有色金屬表面氧化物和油脂蠟垢的能力，且使用方便安全，對(duì)大部份金屬材料和飾面都沒(méi)有影響，具有良好的緩蝕性，適用各種金屬制品除各種油污、拋光蠟。應(yīng)用領(lǐng)域：廣泛適用各種金屬、不銹鋼、鋁材合金、銅材、鐵材、鋅鎂鈦合金等工件表面清洗機(jī)加工油污油脂、拋光蠟與氧化物，效果較好。

: 光學(xué)玻璃清洗劑

希爾光學(xué)玻璃清洗劑是一種水基環(huán)保清洗劑，對(duì)于玻璃蝕刻、CNC、精雕、強(qiáng)化、鋼化、絲印、研磨、拋光、鍍膜前后等均可清洗，主要是洗玻璃上的切削液、硝酸鉀、拋光粉/液、油墨、瀝青、水垢、水印、灰塵、白點(diǎn)、霉點(diǎn)、指紋等各種臟污，以及平磨后的研磨粉與玻璃粉等，清洗良率達(dá)99%以上，潔凈度高，不發(fā)蒙。應(yīng)用領(lǐng)域：適用各種光學(xué)玻璃、光學(xué)零部件、石英玻璃、微晶玻璃、發(fā)電玻璃、導(dǎo)電玻璃、lcd與led、玻璃蓋板、藍(lán)寶石、鏡片等。

: 手機(jī)玻璃清洗劑

希爾手機(jī)玻璃清洗劑對(duì)于玻璃蝕刻、精雕后、強(qiáng)化前后、鋼化后、絲印后、平磨后、鍍膜前后等工序均可清洗，主要是清洗玻璃上的切削液、硝酸鉀、拋光粉/液、油墨、灰塵、霉點(diǎn)、指紋，以及研磨粉以及玻璃粉等臟污，清洗良率高達(dá)99%以上，潔凈能力強(qiáng)、成本低，是一款環(huán)保、水基型玻璃清洗劑產(chǎn)品！應(yīng)用領(lǐng)域：適用各種光學(xué)玻璃、手機(jī)玻璃蓋板、LCD、光學(xué)鏡片、藍(lán)寶石、ITO玻璃、鏡頭、鏡片、攝像頭，顯示器、液晶玻璃等產(chǎn)品。

: 氧化鈰拋光粉清洗劑

希爾氧化鈰拋光粉清洗劑由多種進(jìn)口表面活性、緩蝕劑及其它助劑配制而成的水基清洗劑，針對(duì)玻璃拋光后殘留的氧化鈰拋光粉特別研制。對(duì)玻璃表面殘留的氧化鈰顆粒污垢有非常好的的螯合分散和清洗效果。具有對(duì)玻璃表面無(wú)腐蝕，劃痕少，無(wú)毒無(wú)污染，操作安全等優(yōu)點(diǎn)。廣泛用于硅酸鹽、硼酸鹽、磷酸鹽類(lèi)型的光學(xué)玻璃清洗。應(yīng)用領(lǐng)域：專(zhuān)用于光學(xué)玻璃的拋光研磨后的清洗。