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半導(dǎo)體功率器件清洗劑

希爾半導(dǎo)體功率器件清洗劑是去除半導(dǎo)體表面的氧化皮、助焊劑、焊錫膏、金屬離子以及光刻膠等污染物的水基清洗劑，其中的活性物質(zhì)可以吸附在芯片表面，使其長(zhǎng)期處于易清洗的物理吸附狀態(tài)，并在表面形成保護(hù)層，防止顆粒的二次吸附，清洗速度快，無(wú)殘留，不會(huì)對(duì)銅、鋁、鎳、金、錫、硅及芯片PI層等產(chǎn)生腐蝕破壞。

應(yīng)用領(lǐng)域：用于各種半導(dǎo)體（碳化硅、氮化鎵）、IGBT模塊、功率器件、芯片、電子元器件、銅排線和治具噴淋、超聲波的清洗。

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產(chǎn)品特點(diǎn)Product characteristics

√ 清洗氧化物與焊錫膏效果好，潔凈度高

√ 對(duì)工件表面無(wú)腐蝕，不變色，無(wú)斑白點(diǎn)

√ 原液濃度高，槽液壽命長(zhǎng)，可循環(huán)使用

√ 低泡型，清洗效果好，無(wú)殘留現(xiàn)象

√ 水基環(huán)保，無(wú)毒，無(wú)閃點(diǎn)，不燃不爆

√ 符合voc指標(biāo)要求和歐盟RoHS認(rèn)證

清洗速度快不腐蝕易漂洗水基無(wú)味不傷材

理化指標(biāo)Physical and chemical indicators

外觀	無(wú)色透明液體	密度	0.90-1.01g/L
pH	7.0-9.5（工作液）	類型	水基型(VOC<100g/L)
環(huán)保	無(wú)磷，不含鹵素，符合歐盟RoHS要求

工藝流程Process flow

工藝流程

注意事項(xiàng)Precautions for use

使用方式

噴淋清洗/超聲波清洗
使用方法

原液使用，加熱至50-70度，噴淋清洗5-10分鐘，或超聲波清洗1-5分鐘。對(duì)于重污垢工件，延長(zhǎng)清洗時(shí)間或使用多槽多次方式徹底清洗干凈。
工作液維護(hù)

1、定期檢查槽液溫度、液位，及時(shí)補(bǔ)水及相應(yīng)比例補(bǔ)加原液。

2、按規(guī)定時(shí)間定期更換槽液。

熱品推薦 / Hot product

: 金屬清洗劑

希爾金屬清洗劑是采用新配方工藝精制，具有良好的剝離、溶解有色金屬表面氧化物和油脂蠟垢的能力，且使用方便安全，對(duì)大部份金屬材料和飾面都沒有影響，具有良好的緩蝕性，適用各種金屬制品除各種油污、拋光蠟。應(yīng)用領(lǐng)域：廣泛適用各種金屬、不銹鋼、鋁材合金、銅材、鐵材、鋅鎂鈦合金等工件表面清洗機(jī)加工油污油脂、拋光蠟與氧化物，效果較好。

: 光學(xué)玻璃清洗劑

希爾光學(xué)玻璃清洗劑是一種水基環(huán)保清洗劑，對(duì)于玻璃蝕刻、CNC、精雕、強(qiáng)化、鋼化、絲印、研磨、拋光、鍍膜前后等均可清洗，主要是洗玻璃上的切削液、硝酸鉀、拋光粉/液、油墨、瀝青、水垢、水印、灰塵、白點(diǎn)、霉點(diǎn)、指紋等各種臟污，以及平磨后的研磨粉與玻璃粉等，清洗良率達(dá)99%以上，潔凈度高，不發(fā)蒙。應(yīng)用領(lǐng)域：適用各種光學(xué)玻璃、光學(xué)零部件、石英玻璃、微晶玻璃、發(fā)電玻璃、導(dǎo)電玻璃、lcd與led、玻璃蓋板、藍(lán)寶石、鏡片等。

: 手機(jī)玻璃清洗劑

希爾手機(jī)玻璃清洗劑對(duì)于玻璃蝕刻、精雕后、強(qiáng)化前后、鋼化后、絲印后、平磨后、鍍膜前后等工序均可清洗，主要是清洗玻璃上的切削液、硝酸鉀、拋光粉/液、油墨、灰塵、霉點(diǎn)、指紋，以及研磨粉以及玻璃粉等臟污，清洗良率高達(dá)99%以上，潔凈能力強(qiáng)、成本低，是一款環(huán)保、水基型玻璃清洗劑產(chǎn)品！應(yīng)用領(lǐng)域：適用各種光學(xué)玻璃、手機(jī)玻璃蓋板、LCD、光學(xué)鏡片、藍(lán)寶石、ITO玻璃、鏡頭、鏡片、攝像頭，顯示器、液晶玻璃等產(chǎn)品。

: 氧化鈰拋光粉清洗劑

希爾氧化鈰拋光粉清洗劑由多種進(jìn)口表面活性、緩蝕劑及其它助劑配制而成的水基清洗劑，針對(duì)玻璃拋光后殘留的氧化鈰拋光粉特別研制。對(duì)玻璃表面殘留的氧化鈰顆粒污垢有非常好的的螯合分散和清洗效果。具有對(duì)玻璃表面無(wú)腐蝕，劃痕少，無(wú)毒無(wú)污染，操作安全等優(yōu)點(diǎn)。廣泛用于硅酸鹽、硼酸鹽、磷酸鹽類型的光學(xué)玻璃清洗。應(yīng)用領(lǐng)域：專用于光學(xué)玻璃的拋光研磨后的清洗。